Der ISIT-Wissenschaftler Dr. Gerfried Zwicker hat Mitte Oktober für seine Verdienste zur Weiterentwicklung des Chemisch-mechanischen Polierens CMP während der International Conference on Planarization/CMP Technology ICPT 2017 den „Lifetime Achievement Award for Distinguished Contribution in the Field of Planarization“ verliehen bekommen. Die Auszeichnung ehrt Wissenschaftler und Ingenieure für ihre Beiträge zur Weiterentwicklung dieses für die Fertigung von Mikroelektronik-Bauelementen inzwischen unverzichtbaren Verfahrens. Sie wurde vor zwei Jahren das erste Mal an den inzwischen im Ruhestand befindlichen IBM Mitarbeiter Klaus Beyer verliehen, der Mitte der achtziger Jahre CMP „erfunden“ und zur Fertigungsreife weiter entwickelt hat.

In seiner Laudatio stellte Dr. Knut Gottfried vom Fraunhofer ENAS heraus, dass Dr. Zwicker zu den deutschen/europäischen CMP Pionieren gezählt werden kann. So war er führend an der Entwicklung der CMP Anlagen der Firma Peter Wolters und den zugehörigen Polierprozessen beteiligt. Er hat zuerst die deutsche und später die europäische CMP Nutzergruppe gegründet und organisiert die halbjährlichen Nutzertreffen. Er repräsentiert Europa im Steuerungsgremium der ICPT Konferenz und unterstützt die Organisation der Konferenz aktiv und in Form von Beiträgen seit der Gründung der Konferenz im Jahr 2005.

Dr. Zwicker leitet die CMP Entwicklungen am Fraunhofer ISIT mit dem Schwerpunkt CMP für die Herstellung von MEMS Bauelementen und untersucht neuartige Nassprozesse auf Basis von elektrochemischen Methoden. Er hat verschiedenste Veröffentlichungen zum Thema CMP verfasst und Übersichtsartikel für CMP Lehrbücher geschrieben.

Zusammen mit Dr. Gerfried Zwicker vom Fraunhofer ISIT in Itzehoe wurden außerdem Prof. Suryadevara Babu von der Clarkson University, Potsdam, NY, U.S.A. sowie Prof Jin-Goo Park von der Hanyang University, Ansan, Korea auf der Konferenz im belgischen Leuven mit dem Lifetime Award ausgezeichnet.